等離子清洗機是一種新型的低成本、高性能、實驗性反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，手動裝載晶圓片，應(yīng)用于單片晶圓刻蝕、殘膠去除及表面清洗工藝，可滿足小型晶圓廠、大學(xué)實驗室、初創(chuàng)公司的使用需求。等離子清洗設(shè)備采用觸摸屏+PLC全自動控制，憑借其時尚、緊湊的設(shè)計，只需占用很小的潔凈室空間，使用維護簡單方便。

等離子清洗機能清潔晶圓、達到對材料改性、光刻膠灰化等目的。等離子清洗機也適于處理復(fù)雜的曲面或溝槽，處理對象包括：聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙乙烯(PS)、高抗沖聚丙乙烯(HIPS) 、ABS、PC、EPDM、聚酯(PET、APET)、聚氨酯(PUL)、聚甲醛、乙烯基、尼龍、(硅)橡膠、有機玻璃等各種高分子材料、電線、電纜、光纜、汽車密封條及玻璃、陶瓷和金屬。

等離子清洗機能去除硅膠片上元件表面的光敏有機資料制造的光刻膠。在堆積工藝開端前，需求將殘留的光刻膠去除潔凈。傳統(tǒng)的去膠辦法采熱的硫酸和過氧化氫溶液，或其他的有毒的有機溶劑。但是，運用等離子清洗機清洗能夠用三氧化硫等氣體去膠，這種辦法削減了對化學(xué)溶劑和有機溶劑的依賴。關(guān)于一般的制造廠來說，選用等離子體清洗機去膠可使化學(xué)溶液的運用量削減1000倍，不只環(huán)保，還能為企業(yè)節(jié)約大量資金。

等離子清洗機功能主要依靠等離子中活性顆粒的“活化"來清除物體表面污漬。從機理上講，等離子體清洗一般包括下列過程：無機氣體被激發(fā)到等離子體狀態(tài)；固體表面吸附氣相物質(zhì)；吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；主要是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、活化和表面準備等。