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退火爐
  • 退火爐
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貨物所在地:北京北京市

更新時間:2025-04-11 15:11:48

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退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑,使沉積的膜至密化,并改變生長的膜的狀態(tài)。

退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑,使沉積的膜至密化,并改變生長的膜的狀態(tài)。暴露在高溫下可以修復損壞。該過程稱為退火。 爐子退火可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,也可以單獨處理。

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退火爐技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域腔體
  • 半導體。

  • MEMs。

  • 納米技術(shù)。

  • LED。

  • 太陽能電池產(chǎn)業(yè)。

  • 平板顯示器。

  • 通過使用加圈和水冷不銹鋼法蘭來控製石英管的溫度。

  • 爐管配置:水平,結(jié)合傳送機構(gòu)。

  • 帶有視窗的手動爐門。


配置和優(yōu)點選件
  • 石英管尺寸:最大12英寸。

  • 單載片或多載片(最多50個晶圓)。

  • 控制精度:<±1°C。

  • 製程氣體:N2、Ar、H2。

  • 最高溫度:最高1700°C。

  • 抽氣閥件前端會有冷凍捕捉器。

  • 易於清潔和維護。

  • 和自動傳送組成在一起。








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