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聚合物納米粒子生成系統 應用領域:

·顆粒生產PLGA、PEGDA、聚苯乙烯等

·藥物控釋/靶向給藥-新應用-可生物降解納米顆粒的生成

·診斷試驗和分析

·油類化學品-提高采收率，阻垢劑

·涂料和清漆用粘合劑

·放射性廢物處理

·催化劑

聚合物納米粒子生成系統 主要優勢：

·寬的可控粒徑范圍從50 nm到500 nm

·Cv值介于20%和30%之間的高度單分散顆粒

·控制顆粒的尺寸、形狀和形態

·產量高達每天幾克（TelOS大型微液滴系統）

·批間重復性高，試劑消耗少

·模塊化系統

·各種應用領域都易于放大

·無脈動穩定液體混合

·高混合效率保證產品收率高

·非常耐化學腐蝕

·模塊化，易于使用，快速放大  

聚合物納米粒子生成系統 主要參數：

· 寬的可控粒徑范圍從50 nm到500 nm

· Cv值介于20%和30%之間的高度單分散顆粒

· 樣品體積：從0.5毫升到幾升

· 化學耐性：非常高（浸潤材料：PEEK, PTFE和玻璃）

· 壓力泵壓力范圍：0-10 bar

· 流速范圍；5 nL/min 至大于100 mL/min (取決于流體性質)

· 聚合物納米粒子生成系統頻率：標準系統通常高達10MHz，生產系統通常高達1GHz（取決于試劑和粒徑）