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高真空單輥旋淬及噴鑄系統--XC500

真空室結構:圓筒形前開門

真空室尺寸:φ500X300mm

極限真空度:≤6.67E-5Pa

沉積源:

樣品尺寸，溫度:感應熔煉10克純鐵樣品，在30秒鐘內化

占地面積(長x寬x高):約2.7米x1.4米x2米

電控描述:手動

工藝:不含工藝

特色參數: 高速輥輪線速度0-50m/s可調;坩堝手動直線進給機構;條帶接收器:Ф125x1500mm

產品概述:

系統主要由感應熔煉真空室、轉動門、單輥旋淬裝置、感應熔煉機構、手動直線進給機構、噴鑄系統、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。

設備用途:

高真空單輥旋淬及噴鑄系統是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備，該設備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作，廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。