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產品簡介
本儀器除了對20-30mm高度的金屬試樣作分析鑒定外，由于符合人的日常習慣，因此更廣泛的應用于透明，半透明或不透明物質。大于3 微米小于20微米的觀察目標，比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結構、痕跡，都能有很好的成像效果。
詳細介紹
- 鏡筒：B雙目，30度傾斜，360度旋轉，輔助倍數1.25X
- 高眼點目鏡：PLAN10Xф20mm
- 長工作距離平場物鏡：PL4X，PL10X，PLL40X（S），PL100X（S）（oil）
- 轉換器：四孔
- 總放大倍數：50X-1250X
- 載物臺：尺寸160mmX140mm，移動范圍75mmX50mm
- 聚焦鏡：可調式阿貝聚焦鏡NA1.25，孔徑光闌，濾色片座
- 調焦：粗微動同軸，升降范圍20mm ，微動格值0.002mm，帶鎖緊和限位裝置
- 光源：透反射柯勒照明，透射照明鹵素燈12V20W，反射照明鹵素燈12V50W，亮度可調
- 正交偏光裝置