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本儀器廣泛的應用于透明，半透明或不透明物質，觀察目標：大于3 微米小于20微米，比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結構、痕跡，都能有很好的成像效果。選配外置系統可以方便的連接視屏和計算機進行實時和靜動態的圖像觀察、保存和編輯、打印結合各種軟件能進行更的金相、測量、互動教學領域的需要。
產品簡介
詳細介紹
- 鏡筒：T三目，30度傾斜
- 大視野目鏡：WF10Xф18mm
- 平場物鏡： PLAN4X，PLAN10X，PLAN40X（S），PLAN100X（oil）（S）
- 轉換器：四孔
- 總放大倍數：40X—1000X
- 載物臺：尺寸185mmX140mm， 移動范圍75mmX50mm
- 聚焦鏡：可調式阿貝聚焦鏡NA1.25，孔徑光闌，濾色片座
- 調焦：粗微動同軸，升降范圍35mm，微動格值0.002mm
- 光源：透反射照明鹵素燈6V20W，亮度可調
- 正交偏光裝置