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上海皓越真空設備有限公司
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VVS-2000℃研究用真空碳管爐
  • VVS-2000℃研究用真空碳管爐
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貨物所在地:上海上海市

更新時間:2025-02-12 21:00:07

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研究用真空燒結爐用石墨,鉬屏或鎢屏作發熱體的高溫真空電阻爐,額定溫度為1000~2400℃??晒┙饘?、難熔化合物及陶瓷材料等在真空或保護氣氛中加熱之用。

一、特點:
適用于無機材料的成形燒結,原料反應燒結的制備。同時也適用于金屬材料的粉未冶金燒結,還適用于表面噴涂復合材料的高溫燒結處理。此真空爐為高校,科研機構真空爐,根據原材料的不同,可以選用不同的加熱體,可以選擇石墨,鉬屏,鎢屏,金屬鉭等。

二、型號規格: 

產品型號

加熱元件材質

設備形式

取料方式

有效工作區
(mm)

zui高加熱
溫度(℃)

常用工作
溫度(℃)

加熱功率
(KW)

冷態
極限真空度(Pa)

VVSgr-15-2000

石墨

立式

上取料

Φ100×100

2000

1800

15

6.7×10-3

VVSgr-40-2000

石墨

立式

上取料

Φ160×160

2000

1800

40

6.7×10-3

VVSgr-100-2000

石墨

立式

下取料

Φ300×400

2000

1800

100

6.7×10-3

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