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納米壓印光刻機SMILE制作微光學器件的納米壓印光刻系統,也是晶圓級相機,圖像傳感器生產中所需的設備。納米壓印光刻機SMILE可在其掩模對準器平臺上進行大面積圖案化。
微圖案化應用
光學定制的抗蝕劑以水坑的形式分布在表面上基板表面。通過移動與基板接觸的基板抗蝕劑在基底之間徑向擴散填充印章的3D圖案。
最大晶圓尺寸：200mm
壓印面積：200mm
結構分辨率：從mm級到<100nm
納米圖案化應用
柔性印模在中心彎曲，并與涂有抗蝕劑的基材接觸。接觸波徑向延伸至基板的外邊緣。作為最終結果步驟：抗蝕劑固化（例如通過UV照射）。然后將堆疊分離，并將圖案的負片特征保留在基底上的抗蝕劑中需要精確的楔塊誤差補償和間隙設置因此，壓印光刻的關鍵因素。SUSS掩模對準器平臺提供主動楔形誤差采用壓電線性電路的補償系統致動器、高精度間隙測量系統和力檢測器。這實現了精確的橫向和軸向將印模對準基底。
最大晶圓尺寸：200mm
壓印面積：200mm
結構分辨率：從mm級到<100nm
納米壓印光刻機亮點
+對抗蝕劑厚度和厚度的精確控制一致性
+任意襯底材料
+雙面圖案化能力
+高對準精度
+邊緣處理或緩沖晶片以避免透鏡
+翹曲晶片處理

納米壓印光刻機結果