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這款紫外曝光機非常適合對紫外光敏感層曝光處理，是理想的紫外掩膜曝光機系統和掩膜對準機,mask aligner.紫外曝光機廣泛用于光學，生物，微納科技，光刻等領域需要1-2掩膜的應用。

紫外掩曝光機特點

1)*的單色曝光，曝光帶寬小于10nm;

2)冷紫外曝光，襯底環境溫度實時控制，從而實現均勻曝光，消除熱效應；

3）*的功率密度

4） 紫外LED壽命更長，高達10000小時；

5）方便用戶使用的觸摸屏配置；

6） 不需要預熱；

7）計算機控制紫外光源強度調節；

8）自動晶圓裝載和卸載功能；

9）超低能耗；

紫外掩曝光機參數

分辨率：2微米

發射光譜：365+/-5nm,  385+/-5nm
4英寸晶圓照明： 25mW/cm^2 +/-10%

暴曬時晶圓溫度加熱:<1攝氏度
暴曬循環：1秒~18小時
記憶的曝光循環數： 10個

功率：180W

重量：8.2kg

尺寸: 260x260x260mm^2
電源： 110V/230v50Hz