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[供應]PECVD-12II-3Z/G-1200℃雙溫區PECVD系統
1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（可選配中真空或高真空）
1200℃雙溫區PECVD系統
產品應用：
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品組成：
此款PECVD系統配置：
1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（可選配中真空或高真空）
PECVD系統產品特點：
生長溫度低；沉積速率快；成膜質量好，適用范圍廣，設備簡單。
系統名稱 | 1200℃雙溫區PECVD系統 | |
系統型號 | PECVD-12II-3Z/G | PECVD-12II6-3Z/G |
zui高溫度 | 1200℃ | |
加熱區長度 | 420mm | 610mm |
恒溫區長度 | 280mm | 400mm |
溫區 | 雙溫區 | 雙溫區 |
石英管管徑 | Φ50/Φ60/Φ80 | Φ80/Φ100 |
額定功率 | 3.2Kw | 4.8Kw |
額定電壓 | 220V | 220V |
溫度控制 | 國產程序控溫系統50段程序控溫； | |
控制精度 | ±1℃ | |
爐管zui高工作溫度 | ＜1200℃ | |
氣路法蘭 | 本實用新型在密封法蘭與管件連接的地方采用多環密封技術，在密封法蘭與管外壁間形成了密封，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效，該密封法蘭的安裝只需在*次使用設備的時候安裝 | |
氣體控制方式 | 質量流量計 | |
氣路數量 | 3路（可根據具體需要選配氣路數量） | |
流量范圍 | 0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定 | |
精度 | ±1%F.S | |
響應時間 | ≤4sec | |
工作溫度 | 5-45℃ | |
工作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力） | |
系統連接方式 | 采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數顯真空測量儀 | |
規格 | 中真空 | 高真空 |
系統真空范圍 | 10Pa-100Pa | 1x10-3Pa-1x10-1Pa |
真空泵 | 雙極機械泵理論極限真空度1x10-1Pa，抽氣速率4L/S,出氣口配有油污過濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw | 真空分子泵理論極限真空度 |
信號頻率 | 13.56MHz±005% | |
功率輸出范圍 | 5W-500W | |
zui大反射功率 | 200W | |
射頻輸出接口 | 50Ω，N-type,temale | |
功率穩定度 | ±0.1% | |
諧波分量 | ≤-50dbc | |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ | |
整機功率 | ≥70% | |
屏幕顯示 | 正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值 | |
爐體外形尺寸 | 340×580×555mm | 480×770×605mm |
系統外形尺寸 | 530*2310*750mm | 530*2310*750mm(不含高真空） |
系統總重量 | 270kg | 350kg |
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