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自動電位滴定儀CT-1Plus測定混酸含量——硝酸氫氟酸

檢測樣品:蝕刻液

檢測項目:硝酸氫氟酸

方案概述:在半導體制造領域,刻蝕技術是實現微電子器件精細加工的關鍵步驟之一。半導體濕法刻蝕工藝,簡稱濕法刻蝕,是一種通過化學溶液來去除晶圓表面特定材料層的技術。這種工藝利用化學反應來精確地控制材料的形狀和尺寸,以滿足半導體器件的制造要求。本文主要介紹通過CT-1Plus自動電位滴定儀來測試硝酸/氫氟酸蝕刻液體系的含量。

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更新時間2025年04月18日

上傳企業上海禾工科學儀器有限公司

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關鍵詞:半導體/硅蝕刻/蝕刻液

行業:半導體/蝕刻液

CT-1Plus自動電位滴定儀測定混酸含量——硝酸氫氟酸

摘要

在半導體制造領域,刻蝕技術是實現微電子器件精細加工的關鍵步驟之一。半導體濕法刻蝕工藝,簡稱濕法刻蝕,是一種通過化學溶液來去除晶圓表面特定材料層的技術。這種工藝利用化學反應來精確地控制材料的形狀和尺寸,以滿足半導體器件的制造要求。本文主要介紹通過CT-1Plus自動電位滴定儀來測試硝酸/氫氟酸蝕刻液體系的含量。

 

儀器配置

●CT-1Plus電位滴定儀

●pH102電極(or銻電極)

●20mL高精度計量管

●100mL滴定杯試劑配置

●滴定劑:氫氧化鈉標準溶液

●滴定度:0.5111mol/L

●溶劑


測定方法

●酸堿滴定/電位滴定

●稱取適量試樣于燒杯中,加50mL溶劑溶解,攪拌均勻,插入電極,選用蝕刻液測試方法,用氫氧化鈉標準溶液滴定到終點


儀器參數

● 最小滴定體積:10μL  

● 最大滴定體積:100μL

● 攪拌速度:200        

● 每滴間隔:1500ms

● 終點模式:微分判定   

● 微分設置:200


測試數據

● 環境溫度:20℃ ● 環境濕度:46%  

● 測試時間:2min  

測試結果:經測試,蝕刻液的硝酸濃度約為20.72%,氫氟酸濃度約為5.17%。

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