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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>其它半導體行業儀器設備>其它半導體設備> Plasma Process Cluster 多腔等離子體工藝系統

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Plasma Process Cluster 多腔等離子體工藝系統

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公司主要銷售實驗室儀器儀表、實驗室儀器設備、散熱材料、增材制造設備、電氣設備、電子產品、通訊器材、機械配件、通訊器材、電腦軟硬件、機械配件、非標自動化設備、五金工具、實驗耗材和試劑(不含危險化學品)、激光儀器及輔助設備;

電氣設備、信息系統設計、集成;工程管理服務;單晶硅、碳化硅、立方氮化硼、石墨烯、石墨炔、碳納米管技術開發、技術轉讓和檢驗檢測服務;

計算機軟硬件及輔助設備、信息系統軟件、非標自動化設備的租賃和維修;

銷售醫療器械、文化辦公用品、五金交電、機械設備、監控設備、建筑材料、裝飾材料、辦公室用品;第二類醫療器械經營、第三類醫療器械經營;依托進口核心產品做研發:

團隊是由深圳大學從事材料,光學,生物團隊組成,目前核心創始人3位,分別負責材料,生物和光電領域,分別提供相應配套設施以及技術解決方案等;業務目前主要覆蓋東莞,深圳,惠州,廣州等整個廣東地區,可快速抵達廣東所在區域提供技術支持和服務。

目前典型服務客戶有:清華大學深圳國際研究生院,哈爾濱工業大學(深圳),南方科技大學,深圳大學,深圳技術大學,北京大學深圳研究生院,松山湖材料實驗室,大灣區大學(籌),東莞理工學院,中山大學,暨南大學,華南理工大學,廣東工業大學等

純水機,離心機,旋轉蒸發儀,光譜儀,質譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學工作站,,流式細胞儀,手套箱,磁控濺射

l   方案是適用于 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統

l   系統可用于研發和小批量生產

l   系統兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規則碎片;不同尺寸樣片之間的切換、無需反應腔的開腔破真空

l   系統包括:

一個六端口的轉接腔、帶機械手

六個端口分別連接:

1)一個 ALE 刻蝕腔模塊:用于 Al2O3, AlGaN, GaN 等的原子層刻蝕

2)一個ICPECVD 沉積腔模塊:用于沉積氧化硅、氮化硅、氮氧硅等介質膜

3)一個低溫 ICP-RIE 刻蝕腔模塊:配氟基氣體,主要用于低溫深硅刻蝕、常溫鍺刻蝕等

4)一個 loadlock 預真空室模塊:用于單片樣品的手動送樣

5)一個真空片盒站模塊:用于多片片盒的自動送樣

6)一個端口備用,未來可升級增加 1 個刻蝕或沉積反應腔模塊




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