Plasma Process Cluster 多腔等離子體工藝系統
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 研啟科學儀器(東莞)有限公司
- 品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/10/22 15:56:24
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l 方案是適用于 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統
l 系統可用于研發和小批量生產
l 系統兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規則碎片;不同尺寸樣片之間的切換、無需反應腔的開腔破真空
l 系統包括:
一個六端口的轉接腔、帶機械手
六個端口分別連接:
(1)一個 ALE 刻蝕腔模塊:用于 Al2O3, AlGaN, GaN 等的原子層刻蝕
(2)一個ICPECVD 沉積腔模塊:用于沉積氧化硅、氮化硅、氮氧硅等介質膜
(3)一個低溫 ICP-RIE 刻蝕腔模塊:配氟基氣體,主要用于低溫深硅刻蝕、常溫鍺刻蝕等
(4)一個 loadlock 預真空室模塊:用于單片樣品的手動送樣
(5)一個真空片盒站模塊:用于多片片盒的自動送樣
(6)一個端口備用,未來可升級增加 1 個刻蝕或沉積反應腔模塊