Veeco 離子束蝕刻的優勢

離子束蝕刻是一種成熟的技術，可用于在大批量生產環境中制造先進的薄膜器件。然而，研發和中試線生產環境都在不斷創新下一代MEMS、磁傳感器和數據存儲設備，這些設備也依賴于具有行業最佳性能規格的高性能蝕刻系統。Veeco 目前在全球安裝了 300 多個離子束蝕刻系統，支持薄膜器件應用。

新型 Lancer IBE 系統

新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統專為開發和生產智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現連接性、功能性和移動性的“物聯網”設備中的下一代電子設備而設計。

Lancer系統提供了在研發和生產環境中可以達到的設備質量，包括：

• 的系統性能和功能

• 與前幾代 IBE 相比，單模塊配置減少了占用空間

• 經過生產驗證的技術，目前擁有龐大的安裝基礎

• 擁有專用流程和技術專業知識的大型應用數據庫

• Veeco 銷售和服務支持基礎設施確保客戶滿意度