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RIE-800BCT 深硅刻蝕設(shè)備

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深硅刻蝕設(shè)備RIE-800BCTSAMCO

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

RIE-800BCT是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產(chǎn)型硅DRIE系統(tǒng)。這種高性能系統(tǒng)能夠進(jìn)行高縱橫比處理(超過100)和低扇形處理,同時(shí)保持高蝕刻率和選擇性。

2. 設(shè)備用途/原理

制造MEMS(加速度傳感器、陀螺儀、壓力傳感器、執(zhí)行器等)噴墨打印頭的加工形成通硅孔(TSV)功率器件(超結(jié)MOSFET)的制造。等離子切割

3. 設(shè)備特點(diǎn)

MEMS量產(chǎn)中的高速蝕刻量產(chǎn)中的高寬比蝕刻扇貝的控制/無(wú)扇貝的非波西法流程傾斜控制,均勻性好用于絕緣體硅(SOI)晶片缺口控制的偏置脈沖。深硅ICP刻蝕機(jī)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、物理學(xué)、工程與技術(shù)科學(xué)基礎(chǔ)學(xué)科、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。




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