| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥 |
|---|---|---|---|
| 產品類型 | 旗艦型 | 最大樣品尺寸 | 230×230×15mm |
| 最大直寫面積 | 195mm?x?195mm | 曝光光源 | 385?nm?LED?適用于SU-8 |
| 直寫分辨率 | 0.6μm,?1μm,?2μm,?5μm | 直寫速度 | 25平方毫米/min?@?0.6μm |
| 多層套刻精度 | ±0.5μm | 最小柵格精度 | 100nm |
| 樣品臺最小步長 | 50nm | 光學輪廓Z分辨率 | 100nm |
傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
MicroWriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。
小型臺式無掩膜光刻機應用領域
小型臺式無掩膜光刻系統是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。
MicroWriter小型臺式無掩膜光刻機產品特點
| Focus Lock自動對焦功能
| 直寫前預檢查
| |
| 標記物自動識別 點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。
| 光學輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
| |
| 簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。
| Clewin 掩模圖形設計軟件 + 可以讀取多種圖形設計文件 （DXF, CIF, GDSII, 等） + 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 + 書寫范圍只由基片尺寸決定
|
0.4 μm特征線寬曝光結果
 |  |
直寫分辨率1μm
直寫分辨率0.6μm
灰度直寫
|
|  |  |
微結構/微器件/微電極制備
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
采購中心
化工儀器網