真空等離子表面處理系統優點：

1.環保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環境無污染。

2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理。

3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；

5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

6. 全過程可控工藝：所有參數可由電腦設置和數據記錄，進行工藝質量控制。

7. 處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

【技術參數】

1、設備外形尺寸: 450mm*400mm*260mm

2、真空倉體尺寸: Φ151×285(L)mm （5L）

3、倉體結構: 不銹鋼腔體，內置容性耦合電極，無污染，內置石英托盤。

4、等離子發生器: 頻率40KHZ，功率0-300W 調節，全電路保護，連續長時間工作（風冷）。

5、控制系統:PLC 觸摸屏全自動控制，采用歐姆龍、施耐德等進口品牌電器元件,有手動、自動兩種控制模式，真彩臺達觸摸屏，西門子可編程控制器（PLC），美國產真空壓力傳感系統，可在線設定、修改、監控真空壓力、處理時間、等離子功率等工藝參數，并具有故障報警、工藝存儲等多種功能。在自動模式下設置各項工藝參數，即可一鍵啟動，連續重復運行。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。

【工藝流程】

1、處理工藝流程

裝入工件→抽真空→沖入反應氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

2、工藝控制：

2.1 處理時間控制： 1 秒～120 分鐘連續可調。

2.2 等離子放電壓力：絕對壓力為98Kpa～真空泵最高能力（相對壓力為30～80Pa）

2.3 功率設定范圍：0～300W 連續可調

2.4 流量設定范圍： 氣體1（0～60ml/min） 氣體2（0～160ml/min）

3、PLC 軟件功能（操控界面）

3.1 主畫面：實時監視并顯示運行狀態及數據，等離子電源功率、氣體流量、閥門開

關、真空壓力、運行時間等。

3.2 參數設置：可設定、修改工藝參數及步驟

3.3 工作狀態：可在線查看真空壓力、等離子功率等數據及狀態

3.4 故障報警：多種故障檢測、報警及互鎖保護

【場地要求】

電源：兩相三線，獨立接地，接地電阻≤2Ω。應使用截面積3mm2 以上的接地線將設備接至PE。

真空泵排放氣管：軟管，管徑（內徑）建議將排氣管接至室外

場地溫度：≤40℃

相對濕度：RH（35-85）%