TSV1300真空鍍膜機應用范圍： 
　　該設備采用e型電子槍蒸發源，可蒸發各種高熔點金屬和氧化物，可在玻璃，塑料，陶瓷基體上鍍制各種多層薄膜，如：紅外膜，寬帶增透膜，分光膜，冷光膜，IR-CUT膜，干涉截止濾光片，偏振膜，電學膜，適用于眼鏡，光學鏡頭，精密光學元件，激光和電子行業的大規模工業生產。 

TSV1300真空鍍膜機主要特點： 
　　1電子槍輸出功率穩定，特殊結構設計有效杜絕二次電子的產生和電子槍打火。 
　　2轉動采用磁流體引入，*運轉密封可靠。 
　　3工件轉動座多重水冷和重力導向設計，運轉平穩可靠，徑向和軸向跳動3-5mm. 
　　4采用PLC＋觸摸屏控制，多重泵閥水電互鎖互保護，可全程自動控制，包括真空系統，烘烤系統，整個蒸發鍍膜過程。 
　　5安裝采用全程四極質譜監控和氦質譜檢漏，真空密封性好，設備工藝穩定可靠。 
　　6所有零部件采用國內廠家，電器元件采用進口或合資企業產品，設備24小時連續*運行可靠穩定。 
　　基本參數： 
　　1.立式前開門結構，不銹鋼真空室Φ1300X1500mm 
　　2.極限真空：1×10-4Pa（空載清潔真空系統，300°烘烤后） 
　　3.恢復真空時間：大氣至4×10-3Pa≤15min. 
　　4.大抽速主泵，KT-630型擴散泵（18000L/s）兩臺，配備防湍流裝置。 
　　5.工件轉動：采用磁流體密封轉動裝置，轉動座多重水冷和重力導向設計，運轉平穩可靠。 
　　6.工件烘烤：桶狀上烘烤，三點控溫，**烘烤溫度350°。 
　　7.永磁E型電子槍，槍功率10KW/支；可配置單槍或雙槍，多穴坩堝和環形坩堝。 
　　8.配備美國Inficon公司生產的SQC310C　或IC6型石英晶體膜厚控制儀。 
　　9.10英寸觸摸屏和歐姆龍（PLC）編程控制器，對設備真空系統、蒸發源系統、烘烤系統、工件轉動系統、膜厚監控系統等進行監測和控制，可采用自動和手動兩種模式。 
　　10.可選配Φ16CM的離子源或深冷低溫冷阱。