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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>恒溫/加熱/干燥>馬弗爐/電阻爐/實驗爐>OTF-1200X-PLD 多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐

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OTF-1200X-PLD 多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐

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  合肥科晶材料技術有限公司成立于1997年,是由一群來自麻省理工學院和加州大學伯克利分校的材料研究人員創辦的美國MTI公司與中科院合肥物質科學研究院合資興辦的高新技術企業。主要生產氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套設備:包括“混料-壓料-燒料”(混料機、壓片機、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機、自動研磨、拋光機)。公司自主研發生產上百款不同規格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機、清洗劑及新能源鋰離子電池研發等相關實驗室設備。現已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實驗室設備的*,為科研工作者提供材料研究解決方案。產品設計*、性能優異,質量可靠,性價比高,環保節能、返修率低,遠銷到歐洲,美國,日本,德國等許多國家,廣泛應用于物理、化學、冶金、醫學、新能源材料研發等領域,受到客戶*好評。
 
  科晶公司秉承"以人為本、技術為導、誠信為基、積極創新"的經營理念,全力打造材料研發設備的品牌,竭力為科學進步和社會發展做出貢獻。
 

真空管式爐,高溫箱式爐,高速震動球磨機,RTP快速退火爐,高溫高壓爐,涂覆機,電池制備設備等

 OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統組成。可與準分子激光器配合,進行脈沖激光蒸發鍍膜,而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。

 

技術參數

產品特點

  • 可與準分子激光器配合進行PLD制膜
  • 腔體內部可安裝多塊靶材,進行多靶激光蒸發
  • 腔體內部靶材可旋轉
  • 可對基片加熱(zui高溫度可達1200℃)

加熱爐(對基片加熱)

  • 雙層殼體結構,并帶有風冷系統,使殼體表面溫度小于60℃
  • 加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金(表面涂有氧化鋯涂層)
  • zui高工作溫度:1200℃
  • zui大功率:1.2KW

腔體

  • 基片加熱腔體為高純石英材料
  • 靶材蒸發腔體為不銹鋼材料
  • 靶材蒸發腔體內可安裝3塊靶材,并且靶材可旋轉(轉速:0-30rmp)
  • 兩個腔體通過卡箍式法蘭連接(可點擊圖片查看詳細資料)
  •  

真空度

  • 10-2Torr(采用機械泵)
  • 10-5Torr(采用渦旋分子泵)
  • 可在本公司購買各種真空泵

窗口

 

  • 采用藍寶石(Al2O3)
  • 尺寸:Φ25*0.5mm
  • 允許激光的入射角度為30°-90°
  •   
壓力控制系統
  • 一套壓力控制系統安裝在儀器的腔體上,可保證腔體內部的氣壓恒定
  • 與混氣系統配合使用,可保證蒸發腔體中各種氣體的分壓恒定
  •   

混氣系統

  • 配有2路質量流量計混合系統
  • 混氣罐尺寸:Φ80X120mm
  • zui大氣壓:3×106Pa
  • 精度:±1%FS
  • 質量流量計量程:1:1-199sccm
                   2:1-499sccm
  • 可按客戶要求訂制其他量程的質量流量計
  • 可選購3-5路混氣系統

等離子射頻電源(可選購)

  • 可在設備上安裝300W等離子射頻電源,使腔體內的氣體等離子化,達到等離子化激光蒸發反應鍍膜
  •  

質保期

一年質保期,終生維護(不包括密封圈、石英腔體和加熱元件)

儀器尺寸

1300mm*1260mm*820mm

質量認證

  • CE質量認證
  • 所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA認證
  • 若客戶出認證費用,本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證
         


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