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2024
04-15

磁控離子濺射儀：原理、應用與技術進展
磁控離子濺射儀是一種先進的表面處理技術設備，其工作原理基于磁控濺射原理，利用高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子從表面逸出并沉積在基材上，形成所需的功能薄膜。在原理上，磁控離子濺射儀通過引入磁場，使電子在電場和磁場的共同作用下，沿特定軌跡運動，增加了電子與氣體分子的碰撞幾率，從而提高了氣體的電離率。這種高電離率使得更多的離子參與到濺射過程中，提高了濺射速率和薄膜的沉積速率。在應用方面，磁控離子濺射儀廣泛應用于微電子、光學、材料科學等領域。它可以制備出高質量的金屬、合金、氧化物等薄膜材料，用于改善材
2024
03-26

鍍金鍍碳一體機的應用前景
在現代工業制造領域，產品的耐用性和美觀度是衡量其市場競爭力的重要指標。隨著科技的不斷進步和消費者需求的日益提高，傳統的表面處理技術已經難以滿足高級產品對品質的追求。因此，鍍金鍍碳一體機作為一種先進的表面處理設備，以其特殊的優勢正逐漸成為產業升級的關鍵力量。鍍金鍍碳一體機融合了鍍金和鍍碳兩種工藝，能夠在不同材料表面形成均勻、精細的鍍層，從而顯著提升產品的耐磨、抗腐蝕能力以及外觀質感。這種設備通常運用于精密電子、汽車零部件、高級裝飾品以及醫療器械等領域，其應用前景廣闊，潛力巨大。鍍金工藝歷來被用于提
2024
03-19

如何利用射頻磁控濺射鍍膜儀優化材料表面性能
射頻磁控濺射鍍膜儀是一款用于掃描電鏡鍍覆導電膜的精密儀器，具有操作簡便、自動化程度高等特點。適合需要高質量導電膜鍍覆的應用場合。適用的靶材包括：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！隨著科技的進步和工業的發展，材料表面性能的優化已成為提高產品性能、延長使用壽命及拓展應用范圍的關鍵手段。射頻磁控濺射鍍膜儀是一款用于掃描電鏡鍍覆導電膜的精密儀器，具有操作簡便、自動化程度高等特點。適合需要高質量導電膜鍍覆的應用場合。適用的靶材包括：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！本文將探討如何利用射頻磁控濺
2024
03-15

磁控離子濺射儀的維護與保養策略
磁控離子濺射儀作為一種精密的薄膜制備設備，其正確的維護與保養對于確保設備的穩定運行和延長使用壽命至關重要。以下是一些關于磁控離子濺射儀的維護與保養策略：首先，定期對磁控離子濺射儀進行清潔是維護的基本步驟。在使用過程中，設備表面和內部可能會積累灰塵、雜質等，這不僅會影響設備的性能，還可能對實驗結果產生干擾。因此，應定期使用無塵布和專用清潔劑對設備表面進行清潔，同時確保內部濺射室的清潔度。其次，對設備的電氣元件和控制系統進行檢查和維護也是的。這包括檢查電源線的連接是否牢固、電氣元件是否損壞或老化、控
2024
02-26

磁控離子濺射儀的用途有哪些？
磁控離子濺射儀是一種廣泛應用于多個領域的科研實驗設備。以下將詳細介紹其在不同領域的用途。首先，在光學領域，磁控離子濺射儀的應用尤為突出。它常被用于制作光學薄膜，如減反射膜，這些薄膜能顯著提高光學器件的性能。此外，該技術還被廣泛應用于低輻射玻璃和透明導電玻璃的生產，這些玻璃在平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等方面都有重要的應用。其次，在裝飾領域，磁控離子濺射儀也發揮著重要作用。它可以被用來制作各種全反射膜和半透明膜，這些膜材料被廣泛應用于手機外殼、鼠標等產品的生產中，為產
2024
01-23

射頻磁控濺射鍍膜儀在納米領域的新應用開啟制造新時代
近年來，隨著納米科技的迅猛發展，各種高精度、高性能的材料制備技術成為科研界和工業界的研究熱點。其中，射頻磁控濺射鍍膜技術因其出色的膜層質量、良好的附著力和可控的沉積速率，已在納米技術領域展現出巨大的潛力。射頻磁控濺射技術是一種利用射頻放電產生的等離子體，在磁場的輔助下將靶材原子濺射到襯底上形成薄膜的方法。與傳統的直流磁控濺射相比，射頻磁控濺射可以用于絕緣材料和導電性較差的材料，擴大了可濺射材料的范圍。這一特點使得它在納米尺度的材料制備中尤為重要。在納米技術領域，精確控制膜層的厚度、組成和結構至關
2024
01-22

磁控離子濺射儀的應用場景有哪些？
磁控離子濺射儀的應用場景包括但不限于以下幾個方面：光學領域：用于制備光學薄膜，如增透膜、反射膜、濾光片、偏振膜等，以及低輻射玻璃和透明導電玻璃等。這些薄膜和玻璃在平板顯示器件、太陽能電池、傳感器等領域有廣泛應用。裝飾領域：用于制備各種顏色和功能的涂層，如抗刮擦涂層、防腐蝕涂層、耐磨涂層等，以及全反射膜和半透明膜等。這些涂層可以應用于手機外殼、鼠標等產品中，以提高產品的外觀和耐久性。微電子領域：作為一種非熱涂層技術，用于制備各種功能膜，如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如，在低溫下沉
2024
01-18

磁控離子濺射儀的優點和缺點是什么？
磁控離子濺射儀的優點主要包括：沉積速率高：由于離子能量高，且在磁場的作用下，離子束密度較高，因此沉積速率較快，提高了制備效率和材料性能。基體溫度低：由于離子濺射過程中基體處于低溫狀態，可以有效地避免熱損傷和熱變形等問題，適用于各種材料的表面處理和制備。可控制性強：磁控離子濺射技術可以通過調整工藝參數實現對涂層和薄膜的成分、結構和性能的控制，有利于實現材料的精密加工和定制化生產。應用范圍廣：磁控離子濺射儀可以制備各種功能薄膜和材料，具有廣泛的應用前景和潛力。磁控離子濺射儀的缺點主要包括：設備成本高
2024
01-05

射頻磁控濺射鍍膜儀原理、特點
射頻磁控濺射鍍膜儀是一種在真空環境下，利用射頻電源驅動的磁控濺射技術，將靶材原子或分子以高速粒子形式沉積到基片表面形成薄膜的設備。這種設備廣泛應用于半導體、電子、光學、光電、能源、環保等領域，是現代高科技產業中的重要工具。射頻磁控濺射鍍膜儀的工作原理是利用磁場對帶電粒子的約束和引導，使得帶電粒子在電場作用下加速飛向靶材，與靶材發生碰撞后，部分靶材原子被彈出，形成離子云。這些離子在電場作用下向基片運動，與基片表面的原子或分子發生碰撞，使得原子或分子從基片表面脫離，形成新的薄膜。這個過程被稱為濺射過
2022
09-05

什么是陶瓷電容？陶瓷電容是怎么來的？
陶瓷電容01.陶瓷電容的定義；陶瓷電容器，是眾多電容器中的一類，又被稱為瓷介電容器，用高介電常數陶瓷材料為介質，在陶瓷制成的介質上涂上金屬薄膜（通常為銀），經高溫燒結而形成電極，制成的陶瓷電容外表涂保護磁漆，或用阻燃材料環氧樹脂進行包封形成的外形為圓片形的陶瓷電容。02.陶瓷電容的制作過程配料→流延→印刷→疊層→制蓋→層壓→切割→排膠→燒結→倒角→端接→燒端→端頭處理→外觀挑選→測試→編帶/包裝陶瓷電容的每一次制作都要按照嚴格生產標準執行，以保證陶瓷電容的品質和質量。智旭原廠每一次生產每一道流水
2022
08-03

磁控濺射鍍膜機導致不均勻因素哪些
原理上講，兩點：氣場和磁場,磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材，濺射出粒子沉積到基材上，整體靶材的電壓幾乎一致，不影響濺射速率。0.4Pa的氣場情況是濺射速率最高的情況，氣場變化，壓強變大和變小都會影響濺射速率。磁場大，束縛的自由電子增多，濺射速率增大，磁場小，束縛的自由電子就少，濺射速率降低。穩定住氣場和磁場，濺射速率也將隨之穩定。在實際情況下，氣場穩定，需要設計布氣系統，最好將布氣系統分級布置，保障鍍膜機腔體內不同位置的進氣量相同，同時，布氣系統、靶材、基材等要遠離鍍膜機的抽氣口。
2022
07-19

高真空鍍碳儀的使用，方法很簡單
高真空鍍碳儀可快速抽真空進行鍍膜處理，處理周期約10分鐘。對原料要求非常簡單，常見的自動鉛筆芯就可作為鍍碳儀原料。每次鍍碳使用一個鉛筆芯，操作非常簡單。主要適用于掃描電子顯微（SEM）和X射線微觀分析等表征工作前的鍍碳處理。高真空鍍碳儀操作流程1、連接電源并打開主機（POWER）。2、等綠燈亮后，再等3~5分鐘再調節電壓（4V）和時間（6s）。3、打開主機背面的小開關，調整轉速在3~4檔，并設定電壓和時間。4、打開測厚儀并使其歸零。5、按START鍵開始噴碳。6、實驗結束先停止設備轉動，并先關掉
2022
07-05

磁控濺射鍍膜機的工作原理是什么？
磁控濺射原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，
2022
07-04

磁控離子濺射儀主要應用在哪些領域呢？
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。實現了高速、低溫、低損傷。是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。其在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。磁控離子濺射儀主要應用在哪些領域呢？1、在光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術也應用于光學薄膜（如減反射膜
2022
06-29

本文有電極制備鍍膜儀的鍍膜原理和技術優勢，快進來看看
電極制備鍍膜儀進行鍍膜的原理是異常輝光放電中稀有氣體產生的等離子體在電場作用下轟擊陰極靶表面，在靶表面濺射分子、原子、離子和電子。濺射粒子具有一定的動能，以一定的方向射向基體表面，在基體表面形成涂層。濺射過程中產生的快電子在正交電磁場中作近似擺線運動，增加了電子行程和氣體電離速率。同時，高能粒子在與氣體碰撞后失去能量，基底溫度較低。涂層可在非耐溫材料上完成。電極制備鍍膜儀技術優勢：1、使用微處理器控制器可以增強系統的靈活性，用戶可以方便地添加各種選項。然而，這些“默認”操作已經過優化，因此可以實
2022
06-13

磁控濺射鍍膜儀有沒有輻射
磁控濺射儀當然有輻射，1、可見光波段：陰極發射的電子電離介質氣體分子，分子/原子光譜。這些光密度不大，不至于刺傷鈦合金狗眼.屬于無害輻射。2、不可見光波段：陰極發射的電子電離介質氣體分子，紅外/紫外，分子/原子光譜。紫外輻射有害3、X射線：氣體電離后的離子，在陰極加速場作用，轟擊陰極靶材，作用區也比較復雜，除了實現離子刻蝕濺射以外，還有類似掃描電鏡類似的散射出現，如二次電子，二次離子，及各種射線輻射。在樣品端，電子會激發出更多X射線，盡管磁控裝置讓大部分電子行程增加，到達樣品其能量衰減近乎零，但
2022
06-09

三種常見的陶瓷電容器有哪些特點及應用？
在我們的日常生活中，各種各樣的電子產品給我們的生活、工作、學習帶來了很大的便利。電子產品由許許多多細小的電子元器件構成，而電容器正是其中應用十分廣泛的電子元件之一。電容器種類眾多，在電路中發揮不同的作用，例如應用于電源電路，實現旁路、去耦、濾波和儲能的作用；應用于信號電路，主要完成耦合、振蕩/同步及時間常數的作用。而陶瓷電容器，顧名思義，就是一種介質材料為陶瓷的電容器，除此之外介質材料還有其他的無機介電材料（如玻璃、云母等），有機介電材料（如聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯等）。一般陶瓷電容器和其他
2022
05-10

陶瓷電容電極材料有哪些改進？
陶瓷電容器一直使用銀電極銀離子遷移和由此而引起含鈦陶瓷介質的加速老化是導致陶瓷電容器失效的主要原因有的廠家生產陶瓷電容器已不用銀電極，而改用鎳電極，在陶瓷基片上采用化學鍍鎳工藝。由于鎳的化學穩定性比銀好，電遷移率低，提高了陶瓷電容器的性能和可靠性。又如，以銀做電極的獨石低頻瓷介質電容器，由于銀電極和瓷料在900℃下一次燒結時瓷料欠燒不能獲得致密的陶瓷介質，存在較大的氣孔率；此外銀電極常用的助溶劑氧化鋇會浸到瓷體內部，在高溫下依靠氧化鋇和銀之間良好的浸潤“互熔”能力，使電極及介質內部出現熱擴散現象
2022
04-08

陰極發光儀和離子濺射儀原理有什么區別
主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(targe
2022
03-07

什么是“磁控濺射靶材”？
當你在智能手機或平板電腦，用手指輕輕一劃，就會出現各種頁面，這就是屏幕上一種透明導電薄膜的功勞?，F在就帶你認識用于生產透明導電薄膜的磁控濺射靶材。它是眾多濺射靶材中發展迅速且應用較廣的一種靶材，目前廣泛應用于平板顯示、節能低輻射玻璃、LED、半導體元器件等行業。1、磁控濺射靶材的分類根據材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材、合金靶材、無機非金屬靶材等。其中無機非金屬靶材又可分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類靶材。根據幾何形狀的不同，靶材可分為長（正）方體形靶材、圓柱體靶材和不規則形狀靶材

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